IEサービス事例一覧
　製造コスト削減サービス

【事例１】
　半導体製造設備 現像液使用量15％削減

半導体製造工程におけるリソグラフィ現像液の削減は、製品影響リスクが高く、お客様単独での改善条件出しが困難な状態でありました。弊社が品質と材料削減を両立可能な条件を立案、導入する事により、現像液を約15％削減を達成しました。

【事例２】
　半導体製造設備 硫酸廃液量削減による
　硫酸・中和剤コスト３％削減

近年の酸系中和剤単価が高騰により廃液処理コストが増えてきております。弊社技術者が設備動作面及び設備出力データ両面から調査、分析を行い、徹底したムダの見える化と改善を実施しました。

【事例３】
　半導体製造設備 スパッタリングターゲット
　材料最大活用による材料コスト30％削減

材料の使用時間により加工出来栄えが変動する設備において、より材料を有効活用する事を目的に、統計解析手法と原理・原則からキーパラメータ抽出を行い、最適条件提案を行いました。その結果、材料コスト30％削減を達成しました。

【事例４】
　半導体製造設備 
　表面保護膜(ポリイミド)使用量　40％削減

半導体の表面保護膜の材料コストが課題となっているお客様向けに、弊社が統計解析手法と原理・原則からキーパラメータ抽出を行い、最適条件を設定及び導入まで実行しました。その結果材料使用量40％削減を達成しました。

品質向上を実現したいお客様

目指す生産ラインを実現したいお客様